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一体化光刻解决策画亮相上海新国际博览主旨

来源:k8 作者:admin 浏览:发布时间:2020-12-07 19:46

  子民网上海6月28日电 (龚莎) 6月27日至29日•, ASML(阿斯麦)携全方位一体化光刻措置计划亮相上海新国际博览重心,加入举世规模最大的国际半导体展。

  光刻成立是半导体创设症结的重点开办之一•。光刻工艺决断了半导体芯片的线宽,同时也决心了芯片的效用和功耗。ASML深耕光刻技艺,凭据商场产品须要,不休冲突技术极限,营救客户陆续屈曲芯片线宽,前进芯片功能,减少芯片功耗。

  在SEMICON China 2020功夫的收集平台直播上•,ASML环球副总裁、中原区总裁沈波显现:•“ASML深耕中国市场跨越三十年,从第一台光刻机发端,我们连接以客户为中央•,不断引进立异的光刻本事和供职,成为华夏半导体行业的亲历者、见证者、和推动者。所有人日•,ASML还将一连投入、扩张构造、教育人才,携手行业同伴•,和华夏半导体财产达成协同发展。”

  本次展会ASML带来的全方位的光刻照料安顿,包含光刻机,量测磨练,和揣测光刻等,为举世半导体财富客户提供了加紧微缩与进取良率的全部策动,同时也不息地促进摩尔定律成为现实。

  一年一度的国际半导体展SEMICON China也是举世半导体人才互换的盛会。在6月28号举行的ASML中原线上分享会上,ASML华夏高管和网友就行业话题、人才生长观和企业文化等举办了深远的交换和互动•。

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